與濕涂技術(shù)相比,真空涂技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn):
(1)廣泛選擇膜和基板,并且可以控制膜厚度以制備具有各種功能的功能膜。
(2)在真空條件下制備膜,環(huán)境清潔,并且膜不易被污染,因此可獲得具有良好致密性,高純度和均勻涂布的膜。
(3)該膜與基材的粘合強(qiáng)度良好,并且膜牢固。
(4)干涂不會(huì)產(chǎn)生廢液或環(huán)境污染。
真空涂覆技術(shù)主要包括真空蒸發(fā)鍍,真空濺射鍍,真空離子鍍,真空束沉積,化學(xué)氣相沉積等。除了化學(xué)氣相沉積外,其他幾種方法還具有以下共同特征:
(1)各種涂層技術(shù)需要特定的真空環(huán)境以確保在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射期間由成膜材料形成的蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),而不會(huì)被大氣中的大量氣體分子撞擊,阻擋和干擾。消除空氣中雜質(zhì)的不利影響。
(2)各種涂覆技術(shù)需要蒸發(fā)源或靶材,以將氣相沉積的材料轉(zhuǎn)化為氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn),成膜材料的選擇范圍大大擴(kuò)大。無論是金屬,金屬合金,金屬間化合物,陶瓷還是有機(jī)物,都可以氣相沉積各種金屬膜和介電膜,并且同時(shí)通過氣相沉積不同的材料獲得多層膜。
(3)在與被鍍工件成膜的過程中,可以相對(duì)準(zhǔn)確地測(cè)量和控制蒸發(fā)或?yàn)R射的成膜材料,從而確保膜厚的均勻性。
(4)每個(gè)膜都可以通過調(diào)節(jié)閥精確地控制涂覆室中殘留氣體的組成和質(zhì)量分?jǐn)?shù),從而防止氣相沉積材料的氧化,將氧氣的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降至最低,并填充惰性氣體。等等,這對(duì)于濕涂層是不可能的。
(5)由于涂裝設(shè)備的不斷改進(jìn),可以連續(xù)實(shí)現(xiàn)涂裝過程,從而大大提高了產(chǎn)品的產(chǎn)量,并且在生產(chǎn)過程中不污染環(huán)境。
(6)由于薄膜是在真空條件下形成的,因此薄膜純度高,致密性好,表面光亮,無需加工,因此其機(jī)械性能和化學(xué)性能均優(yōu)于薄膜。電鍍膜和化學(xué)膜。
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文章來源:@青蝠科技 作者:青蝠科技
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